全自動離子濺射儀產(chǎn)品參數(shù)：
1.腔體尺寸：石英玻璃，直徑150mm*高度130mm
2.供電規(guī)格：AC220V，200w
3.適用靶材：貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常規(guī)金屬Cu、W、Ag 、Cr 等
4.樣品臺可調(diào)高度：20~50mm
5.樣品臺尺寸：直徑55mm
6.工作真空度：1~10Pa
7.氣體路數(shù)：單路
8.氣體流量：手動調(diào)節(jié)
9.控制：觸屏控制
10.外形尺寸：260mm*410mm*343mm(寬*深*高)
11.重量：10KG
12.真空泵：VRD-8
全自動離子濺射儀產(chǎn)品簡介：
1、人性化設(shè)計，儀器操作簡單，一鍵鍍膜。
2、儀器小巧，不占空間，適用于實驗室、科研院所等。
3、鍍膜均勻細密，適用于多種靶材。
4、樣品臺可以快速調(diào)節(jié)，方便取放樣品。
5、儀器性能可靠，設(shè)有多重安全保護機制。
全自動離子濺射儀是一種功能強大的電子設(shè)備，經(jīng)常用于表面分析和薄膜制備。它可以利用離子束轟擊樣品表面，然后通過檢測生成的離子進行分析。該設(shè)備通常具有以下特點：
1.條件控制：全自動離子濺射儀可以精確地控制離子束的能量、角度、荷載和強度等條件。
2.多種離子源：它可以裝配多種離子源，包括氧化物、碳化物和金屬等。
3.檢測器：該設(shè)備通常配備專業(yè)檢測器，可以對樣品進行自動分析、控制和處理。
4.系統(tǒng)集成：它可以與其他設(shè)備集成，如掃描電鏡和光譜儀，以便進行更全面的表面分析。
全自動離子濺射儀的應用非常廣泛，包括制備陶瓷、薄膜、半導體和生物醫(yī)學材料等。此外，它還可以用于表面加工、污染控制和納米加工等領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：
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